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而且不同的芯片代工厂因为工艺的差异或者营销的需求,往往会计算等效工艺的公式还不一样,很容易就让人迷惑了。
比如台积电七纳米和英特尔10纳米……这俩玩意虽然工艺不一样,称呼不一样,但实际上性能都差不多,可以简单粗暴的理解为同一技术水准的东西。
但是徐申学却是知道:台积电等效七纳米或英特尔等效十纳米工艺的话,其实已经可以满足绝大部分芯片的需求了……
只有最顶级的电脑CPU,显卡,手机SOC以及了未来的AI芯片,才会需要更低的等效五纳米,乃至等效三纳米,两纳米之类的工艺……而这些工艺就需要更先进的EUV光刻机了。
这东西人家国外也刚弄出来,一时半会的也买不到……更别说这玩意大概率因为技术封锁难以购买。
所以徐申学对此不抱有什么希望,先购买一大堆DUV浸润式光刻机再说……后续也尽可能的采购更先进的DUV浸润式光刻机,争取被制裁后,也能够独立搞出来等效七纳米左右的芯片。
有了这玩意后,那么后续可供腾挪转移的战略空间就比较大了,不至于让对方稍微卡个芯片代工就会翘辫子。
只要封锁不是太严厉,那么基本问题都不大,至少可以满足未来十多年的需求。
但是如果封锁的太严重,连这些光刻机都不让用,等到甚至连浸润式光刻机也采购不到,甚至连其他设备以及材料,比如光刻胶这些都被制裁了。
那么就需要备份计划里的另外一方案:自主研发半导体基础设备以及材料!
半导体备份计划里,徐申学是两条腿走路!
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数天后,徐申学再一次低调的出现在了深城的一家外资背景的公司里。
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